纳米器件超高分辨率光刻胶的开发

作者：章从福光刻胶纳米器件超高分辨率分子形态粗糙度晶体化低分子量溶解性电子材料

摘要：<正> 据日本《电子材料》报道,日本NEC和Tokuyama公司共同开发了高品质的用于纳米结构超高分辨率的电子束曝光光刻胶。这是一种直径为0.7nm的低分子量光刻胶,其特点主要有:可实现目前世界最高的8nm分辨率;由于其难以晶体化,将线边缘粗糙度降低至1nm;因分子形态容易发生变化,可提高其溶解性,是环保型的安全光刻材料。

注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社